单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光
学薄膜和高温超导薄膜等。由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
主要性能参数
生长方法：弧熔法
晶体结构：立方
晶格常数：a=4.130 Å
熔点（℃）：2800
纯度：99.95%
密度：3.58（g/cm3）
硬度：5.5（mohs）
热膨胀系数（/℃）：11.2x10-6
晶体解理面：<100>
光学透过：>90%（200~400nm），>98%（500~1000nm）
介电常数：ε= 9.65
热导率（卡／度 厘米 秒）：0.14 300°K
尺寸：10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x15 mm
厚度：0.5mm，1.0mm
抛光：单面或双面
晶向：<001>±0.5º 晶面定向精度: ±0.5°
边缘定向精度： 2°（特殊要求可达 1°以内）
斜切晶片：可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角 1°－45°）的晶片。
Ra:：≤5Å（5µm×5µm）
主要特点：由于 MgO 单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径 2 英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
主要用途：用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等, 也可用于制作移
动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。
包装：100 级洁净袋，1000 级超净室
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